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GC特氣柜（Gas Cabinet）和GR特氣架（Gas Rack）的功能設計

特氣柜Gas Cabinet是專為易燃易爆、腐蝕性、毒性等危險性氣體供應而設計的供應系統(tǒng)，按類別可分為：全自動、半自動和手動操作?；竟δ馨ㄗ詣哟祾?、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發(fā)時）。

全自動氣柜通過采用PLC控制，觸控屏為人機界面，通過設備安裝的壓力傳感器、氣動閥、過流量計等裝置，實現(xiàn)設備安全有效的運行。其內部PLC程式設計的安全聯(lián)鎖功能和高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了半導體工藝生產(chǎn)過程中對特殊氣體連續(xù)供給和高純度的要求，同時也確保了工廠正常生產(chǎn)和員工人身安全。下面由蓋斯帕克為大家簡單介紹一下GC特氣柜（Gas Cabinet）和GR特氣架（Gas Rack）的功能設計。

特氣柜/架，VMB/VMP簡介

GC—Gas Cabinet 氣瓶柜(用于危害性氣體) GR—Gas Rack 氣瓶架(用于危害性氣體)

VMB—Valve Manifold Box 閥門箱(用于危害性氣體) VMP—Valve Manifold Panel 閥門盤(用于危害性氣體) 特氣柜和VMB主要用于易燃易爆腐蝕有毒等危害性氣體，而氣瓶架和VMP一般用于非危害性氣體；主要區(qū)別在于，特氣柜和VMB都要有一個外殼上有抽風管，當發(fā)生小泄露等危險情況時可將此類氣體排出去避免擴散產(chǎn)生更大危險。

Gas Cabinet / Gas Rack 特氣柜/氣瓶架/特氣盤面 : 功能設計

可分為單鋼瓶(1process)/ 雙鋼瓶( 2 Process ) / 三鋼瓶(2 Process + 1 N2) 氣瓶柜內的鋼瓶數(shù)設計可分為三種：分別為單鋼瓶、雙鋼瓶、三鋼瓶。

（1）單鋼的設計通常使用于研究機構或實驗室等。工藝制程尚未有量產(chǎn)，氣體使用量小，現(xiàn)場

可隨時協(xié)調停機進行鋼瓶之更換，其優(yōu)點節(jié)省空間、成本低、但需透過日常之管理與協(xié)調以免中斷工藝制程造成損失。

（2）雙鋼與三鋼常用于量產(chǎn)工廠，工藝制程不允許停機情況，當一支鋼瓶使用完后，另一支備

用鋼瓶（stand by）會自動轉為供氣，此兩種形式最大的差別是在purge管路的純化氮氣是以鋼瓶或廠務端供應，當purge用的PN2統(tǒng)一由廠務端來供應時，所有特殊氣體供應系統(tǒng)不管是否相容，全部連接到同一個供應源，會有較高的風險值；萬一中央供應系統(tǒng)的PN2中斷，警報系統(tǒng)又損壞，恰巧兩種不相容的氣體同時使用purge，此時極有可能發(fā)生爆炸的事件發(fā)生，相同性質可使用同一瓶鋼瓶來purge增加的成本及空間非常有限，是一種非常好的應變方式。

（3）三鋼氣柜成本不會差很多安全性會是最好的，只要空間允許應最優(yōu)先選擇。

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